経済産業省
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研究開発の推進、人材の育成確保、設備投資の促進等によるイノベーションの加速化・具体化

今後とも、電気電子機器産業が持続的成長を実現していく上では、イノベーションの加速化・具体化が重要な鍵となります。技術革新の要請と国際競争の激化という状況下で、「選択と集中」をさらに進めてコア分野にリソースを一層集中し、イノベーションを加速して、コスト低減、製品差別化、新市場開拓等を実現していくことが重要です。経済産業省としても、研究開発・人材育成の支援、その成果を具体化する国内設備投資の環境整備等について、引き続き各種取り組みを図っていきます。

研究開発の推進

IT革新を支える産業・基盤の強化を図るため、情報通信技術に関する研究開発を推進しています。特に、情報通信機器は様々な分野で広く活用されていることから、その省エネルギー技術は、CO2排出量の大幅な削減にもつながる重要な技術です。

情報通信機器分野の研究開発

世界最先端のIT国家の実現及び我が国IT産業競争力の強化に向け、環境負荷低減、実社会への適用や普及促進のための技術の共通化・標準化等も考慮に入れながら、基盤となる情報通信機器・デバイス等の情報通信技術に関する研究開発を行う。

技術開発(ハードウェア) [百万円]

半導体
・次世代半導体製造技術開発(MIRAI) [6,200(エネ高を含む)]
高機能、低消費電力となる次世代半導体デバイスの実現に必要な材料・プロセスに関する 先端的基盤技術開発及び最先端リソグラフィに対応したマスク技術等の開発
・次世代プロセスフレンドリー設計技術開発 [941(エネ高)]
次世代の半導体製品に求められる低消費電力化、大規模、高機能化、低コスト化へ対応する効率的なSoC設計技術の開発
・半導体アプリケーションチッププロジェクト [1978(エネ高)]
情報家電等の低消費電力化、高度化を実現するための低消費電力・多機能半導体チップの開発
・極端紫外線(EUV)露光システム開発プロジェクト [1530(エネ高)]
低消費電力となる次世代の半導体回路に必要な微細化を実現するための革新的露光システムの開発
・パワーエレクトロニクスインバータ基盤技術開発 [900(エネ高)]
低電力損失、高耐電圧、高温動作可能などの優れた特性を有するワイドギャップ半導体デバイスを用いた高効率インバータ等の実用パワーエレクトロニクス技術の開発
ディスプレイ
・次世代大型低消費電力ディスプレイ基盤技術開発 [1235(エネ高)]
大型ディスプレイの低消費電力化を実現するための基盤技術の開発
・高機能化システムディスプレイプラットフォーム技術開発 [405(エネ高)]
中小型の液晶ディスプレイ等で利用される高性能な半導体回路をガラス基板上に作製することで低消費電力化を実現する技術の開発
ネットワーク
・次世代高効率ネットワーク先端技術開発 [1159(エネ高)]
次世代の低消費電力高速ルーターを実現するための技術の開発
ミドルウェア
・情報家電センサー・ヒューマンインターフェイスデバイス活用技術の開発 [321]
ヒューマンインターフェースデバイス等消費者の利便性に直結する技術について、機器やメーカーの違いを超えて相互連携できるための基盤技術の開発及びその技術の普及を図るための仕様の共通化
・デジタル情報機器相互運用基盤プロジェクト [360(エネ高)]
情報家電機器のリモート保守や機器ごとの省エネ制御を可能とする統合リモート管理基盤技術の開発
その他
・有機発光機構を用いた高効率照明の開発 [400(エネ高)]
有機EL発光機構を用いた蛍光灯に代わる低消費電力な高効率照明の実現のための技術を開発
・低損失オプティカル新機能部材技術開発 [486(エネ高)]
情報家電の省エネルギー、高性能・高信頼化に資する低損失オプティカル新機能部材技術の開発
・スピントロニクス不揮発性機能技術プロジェクト [650]
不揮発性機能を有する次世代の半導体メモリなどを実現するため、コイル磁束を用いることなく、電子の自転(=スピン)により物質の磁性を制御する基盤技術の開発
・電気電子機器再資源化促進高温鉛はんだ代替技術開発 [200]
リサイクルの阻害要因となっている高温はんだ中の鉛の除去を進め、EU等世界的な特定化学物質使用規制に先駆け国際競争力の強化を図るとともに、次世代電気電子機器の省エネ・省資源化等の環境配慮設計を進めるため、高温鉛はんだの代替技術開発を行う。

技術開発(ソフトウェア) [百万円]

・セキュア・プラットフォームプロジェクト
情報システムの統合を効率的かつ安全に実現するため、オープンソースソフトウェアを活用し、一つのサーバ上で複数の異なるOS環境を安全に管理運用できる技術(セキュアプラットフォーム)を開発する。

独立行政法人新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)

情報通信技術にかかる研究開発プロジェクトの多くは、NEDO運営費交付金にて実施しています。NEDOホームページで、実施プロジェクトを紹介しています。

人材の育成確保

我が国の電気電子機器産業において、国際市場で競合するアジア諸国等における大学・大学院の理工系学生の占める割合は日本に比べて大幅に高く、理工系人材の不足の問題により、我が国の中長期的な国際競争力の低下が懸念されています。我が国の電気電子機器産業が国際競争力を維持・強化し、世界市場で勝ち残っていくためには、研究開発・もの作りを担う人材の育成に加え、理工系人材、特に産業界のニーズに沿った人材等の量・質を確保することが不可欠です。

経済産業省では、産学連携による製造現場の中核人材の育成支援や産学で横断的課題や業種・分野別課題について議論・合意形成し、産業双方向の具体的な行動につなげる対話の場(「産学人材育成パートナーシップ」)の創設等、人材の育成確保のための各種取り組み行っています。

設備投資の促進

近年、電気電子機器産業では、薄型ディスプレイ、半導体をはじめとして国内で大型設備投資が相次ぎ、電気電子機器産業は製品市場のみならず、設備投資においても、我が国全体の景況回復を牽引しています。一方で、デジタル家電分野においては、アジア諸国の競合メーカーが大胆かつ迅速な投資決定と得意分野に重点化することによる収益の高い経営により急速に台頭してきています。

経済産業省としても、国際競争力の強化のため、税制改正などを通じ、設備投資促進のための各種取り組みを展開しています。

特に、税制面では、平成19年度税制改正において、国際的なイコールフッティングの確保と最先端設備の導入促進を目的とした、約40年ぶりの歴史的改革となる「減価償却制度の抜本的に見直し」が行われました。これにより、償却可能限度額の撤廃、フラットパネルディスプレイ製造設備の法定耐用年数短縮などが実現しました。

お問合せ先

商務情報政策局 情報処理振興課
電話:03-3501-6944

経済産業省 〒100-8901 東京都千代田区霞が関1-3-1 代表電話 03-3501-1511
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