日米欧中韓の五大特許庁、特許制度調和を初議論~第4回五大特許庁長官会合の結果について~
本件の概要
日米欧中韓の5か国・地域の特許庁による第4回五大特許庁長官会合が、6月23,24日に東京において開催されました。
日本のリーダシップの下、本会合において初めて、五大特許庁(五庁)は、特許制度の調和に向けた議論を行いました。今回の議論が今後さらに進展し、特許制度の国際的な調和が進めば、日本で特許となった発明について、海外でも特許として権利保護される可能性が高まるので、日本の産業界は安心して国際的な事業展開や研究開発を行うことができるようになります。
また、同会合において、我が国特許庁の特許分類*1と欧州特許庁の特許分類を軸に、五庁の間で共通の特許分類の整備を加速していくことが合意されました。より緻密な共通の特許分類ができれば、世界の特許文献を効率的かつ網羅的に調査することができるので、特許権の安定性、信頼性が高まります。また、企業自身も、自社技術と関連する中国・韓国の特許などを容易に発見できるので、海外での知財訴訟のリスクに備えることができます。
担当
特許庁 総務部 国際課
公表日
平成23年6月24日(金)
