日米欧中韓の商標五庁の新たな協力枠組みを創設します～第１回商標五庁会合の結果について～

　この度、商標分野において、日米欧の三庁に、韓国、中国をメンバーに加えた「商標五庁」の新たな協力枠組みが創設されることとなりました。
　１０月３０日から３１日にかけて第１回商標五庁会合がスペイン・バルセロナで開催され、日米欧中韓の商標五庁間で知財分野における商標の国際的な協力の必要性が共有されるとともに、今後商標五庁間で国際協力を推進していくことが確認され、共同声明が採択されました。
　日本国特許庁は、我が国企業の商標が世界各国で適切に保護、活用される環境整備に向け、商標五庁の枠組みでの国際協力等を推進することにより、我が国企業のグローバルな事業活動の支援に努めてまいります。

特許庁　総務部　国際課

平成24年11月1日(木)

• 日米欧中韓の商標五庁の新たな協力枠組みを創設します～第１回商標五庁会合の結果について～(PDF形式：122KB)
• 【参考】第１回商標五庁会合 共同声明(PDF形式：39KB)