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日中韓の知的財産分野での協力をさらに強化します~第15回日中韓特許庁長官会合の結果について~

本件の概要

日本国特許庁と中国国家知識産権局、韓国特許庁は、11月17日、第15回日中韓特許庁長官会合を開催しました。今回の会合では、権利範囲や発明の内容が記載された書類の記載内容を変更する際の要件(補正要件)に関する日中韓三カ国の事例研究の結果を公表することで合意しました。これらの情報は、日中韓三カ国へ手続を行うユーザーにとって、各庁の審査実務を理解する上で有用なものと考えられます。この他、特許及び意匠分野の審査、審判、情報インフラ整備など、多方面にわたる協力について協議しました。

1.背景

中国及び韓国は、日本の貿易相手国として、それぞれ第2位、第3位に位置しており、その輸出額は全体の4分の1を占めるなど、緊密な経済関係を築いています。また、2013年の日中韓三カ国の特許庁への特許出願件数は135万件であり、世界の特許出願件数257万件の半数以上を占めていることから、世界的な知的財産制度の発展のために、日中韓三カ国が協力を強化していくことの重要性が増しています。

このような認識のもと、日中韓三カ国の特許庁は、2001年以降、毎年長官会合を継続して開催し、制度・審査実務、意匠、機械化、人材育成、審判等、幅広い分野で協力を行っています。今年は、11月17日に中国(広州)にて、第15回長官会合を開催しました。また、長官会合にあわせて、三カ国のユーザーを交えたシンポジウムが開催され、審査協力、中小企業支援施策等について、ユーザーを交えた積極的な意見交換が行われました。

2.会合の結果(概要)

本会合では、特許及び意匠分野の審査、審判、情報インフラ整備など、多方面にわたる協力について協議しました。主な合意内容は以下のとおりです。

(1)特許分野の協力

本会合では、日中韓三カ国の「補正要件」に関する事例研究の結果を、三庁長官が承認し、公表することで合意しました。今回の事例研究では主に、補正により追加された事項が出願当初に記載された内容に含まれているか否か(含まれていない場合、「新規事項の追加」といい、このような補正は認められません)の判断に関する事例について、各庁の判断の相違について議論し、三カ国間での補正要件の審査実務上の差異を確認しました。

(2)意匠分野の協力

本会合では、三庁で意匠分野における共通関心事項に関する議論を行うことの重要性を確認するとともに、今後も各国の意匠制度や審査基準に関する意見交換を継続することで合意しました。

また、三庁は、日中韓デザインフォーラム(※1)が、各国意匠制度の相互理解に寄与する重要な機会であるという認識を共有し、今後も継続、発展させていくことの必要性を強調しました。

(3)その他の協力

本会合では、三カ国のユーザーに対して広く情報を発信するため、日本語、中国語、韓国語、英語で提供される新たな日中韓知財協力ウェブサイト「TRIPO(Trilateral IP Offices)」(※2)の開設に合意しました。

3.今後の取組

特許庁は、日中韓の枠組みにおいて、制度比較研究などを推進するとともに、シンポジウムやセミナー、ウェブサイトにおける情報公開など、ユーザーが権利化を目指す際の利便性の向上に役立つ協力を推進してまいります。特許庁としては、我が国出願人の知的財産権が日中韓いずれの国においても適切に保護・活用されるよう、制度環境の構築に努めてまいります。

※1 日本、中国及び韓国のデザイン保護制度の相互理解を深め、デザインの活用に資する意匠保護の在り方を議論することを目的とし、2010年より各国持ち回りで開催しています。
※2 TRIPOウェブサイト(http://www.tripo.org/外部リンク

担当

特許庁総務部国際政策課

公表日

平成27年11月17日(火)

発表資料

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