経済産業省
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日米欧中韓により、初めて意匠五庁会合が開催されました

本件の概要

12月3日から4日に、日米欧中韓による、初めての意匠五庁会合をアメリカ・アレクサンドリアで開催しました。
今次会合では、五庁による議論の継続に合意し、五庁が取り組むべき意匠の国際分類等の課題の共有がなされ、今後も定期的に開催する事になりました。

1.背景

日本国特許庁(JPO)、米国特許商標庁(USPTO)、欧州共同体商標意匠庁(OHIM)、中国国家知識産権局(SIPO)、韓国特許庁(KIPO)の世界の意匠出願の約9割を占める五庁により、今回初めて第1回意匠五庁年次会合(ID5)を開催し、意匠制度の国際的な協力を確認するとともに、今後五庁間で意匠分野での協力を推進していくことについて合意しました。

2.今次会合の主な成果

  1. 各庁の実務および統計に関する最新情報の共有
    各国の統計、品質管理、審査・登録手続きに関する情報等を共有しました。また、今後、各庁の意匠出願やファーストアクション等の統計情報を取りまとめることとなりました。
  2. 意匠分類に関する情報共有と整備
    国際意匠分類は、ユーザーにとって負担が少ない権利調査を行うために重要であることから、各国での意匠分類の運用を整理し情報共有することについて合意しました。
  3. その他の今後の議論について
    ID5ウェブサイトの開発、優先権書類の電子的交換(DAS)、アニメーションや3Dイメージデータによる出願やGUI(グラフィカル・ユーザー・インターフェイス)の保護等について、検討がなされました。

3.今後の取組

特許庁は、我が国企業の意匠が世界各国で適切に保護、活用される環境整備に向け、意匠五庁の枠組みでの国際協力等を引き続き推進していくことにより、我が国企業のグローバルな事業活動の支援に努めてまいります。

担当

特許庁審査第一部意匠課
特許庁総務部国際協力課

公表日

平成27年12月7日(月)

発表資料

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