1. ホーム
  2. ニュースリリース
  3. ニュースリリースアーカイブ
  4. 2018年度10月一覧
  5. 日印特許審査ハイウェイ、首脳会談において来年度第一四半期開始で一致

日印特許審査ハイウェイ、首脳会談において来年度第一四半期開始で一致

2018年10月30日

特許庁

10月29日、日印首脳会談において、日印特許審査ハイウェイ(PPH)の試行を2019年度第一四半期に開始することで一致しました。日本で特許登録を受けて、このPPHを利用することで、インドにおいて早期に特許権を取得することが可能となり、円滑な事業展開を図ることができます。

1.インドとのPPH試行について

10月29日の日印首脳会談において、日印間のPPHの試行を特定の規定された発明分野において2019年度第一四半期に開始することで一致しました。これにより、日本で特許になり得ると判断された出願については、出願人の申請により、インドにおいて簡易な手続で早期審査を受けることができます。

インドが加わることで、我が国がPPHを締結した国・地域は43となります。
今後も特許庁は、PPHの対象国拡大を図るとともに、海外の特許庁との間で申請手続の共通化・簡素化に努めることによって、我が国企業等の海外における迅速な権利取得を支援して参ります。

2.背景

日本国特許庁は、インド商工省産業政策・振興局と2015年6月に産業財産分野における協力覚書に署名し(※1)、インドにおいて知的財産権が迅速に取得できる環境整備を進めてきました。2017年5月には、インドとの協力事項を拡充した新たなアクションプランについてインド特許意匠商標総局との間で合意し(※2)、2018年8月に実施した第2回日印知的財産評価会合を経て、2018年9月、日本国特許庁とインド商工省産業政策・振興局は、日印PPHの試行を特定の規定された発明分野において2019年度第一四半期に開始することに大筋で合意していました(※3)。

担当