第3回日印知的財産評価会合を実施しました

2019年11月22日

【11月29日発表資料差し替え】11月20日に開催された第3回日印知的財産評価会合にて採択された共同声明文原文及び仮訳を追加します。

11月20日、日本国特許庁とインド商工省産業国内取引振興局は、第3回日印知的財産評価会合を実施しました。本会合において、日本国特許庁とインド特許意匠商標総局は、知的財産の分野での協力事項を拡充した新たなアクションプランに署名し、協力関係の継続と強化について共同声明を行いました。また、両庁は、日印特許審査ハイウェイ試行に係る合意文書の署名を行い、12月上旬から申請受付を開始することに合意しました。インドと特許審査ハイウェイを行うのは、日本が世界初となります。

1.背景

日本国特許庁(JPO)はインド商工省産業国内取引振興局(DPIIT)の前身であるインド商工省産業政策・振興局と2015年6月に産業財産分野における協力覚書に署名し、日本に招へいして行う人材育成のほか、インド特許審査官約400名の新人研修に協力するなど、インドにおいて知的財産が迅速に取得できる環境整備を進めてきました。

また、2017年5月には、インドとの特許審査ハイウェイ(PPH)の早期開始に向けた議論を進めるための専門家派遣等、協力事項を拡充した新たなアクションプランをインド特許意匠商標総局との間で合意しました(※1)。

上記を受け、これまでJPOとDPIITは、協力関係の維持・強化を目的として、2017年にデリーで、2018年に東京で、日印知的財産評価会合を実施しました。今回はデリーにて、第3回知的財産評価会合を実施しました。

2.第3回知的財産評価会合の内容

本会合において、以下の事項の実施を含むアクションプランに署名しました。

また、日印PPHの試行に係る合意文書に署名し、12月上旬からPPHの申請受付を開始することに合意しました(※2)。

(※1)プレスリリース:インドとの産業財産分野での協力を拡大することに合意しました
(※2)特許庁HP:日インド特許審査ハイウェイ試行プログラムについて外部リンク

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